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更新時間:2026-08-18
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半導體主要應用:靜電卡盤 ESC、晶圓載臺、探針臺、特氣 / 藥液管路伴熱、腔體恒溫、氣體加熱、封裝、光刻顯影、真空設備、石英罐保溫;重點關注低釋氣、控溫均勻、快速熱響應、潔凈等級。
導熱系數>170W/m?K,內置 K 型熱電偶;晶圓載臺、ESC 局部加熱、封裝、微型熱臺
WALN 系列(薄片氮化鋁)
WALN?5H、WALN?8、WALN?12(市面流通最多)
特點:5s 可達 400℃,熱響應極快,低釋氣;方形薄片,小面積高精度加熱,半導體設備零部件標配。
MTP 系列(氮化鋁加熱板,大尺寸)
MTP?250、MTP?300、MTP?400、MTP?500
大板面,用于小型晶圓載臺、模塊恒溫,內置熱電偶直出,配套坂口 SCR?SHQ?A 溫控器使用。
MC0505 / MC0505H / MC1010H
最小 5×5mm,最高 500℃,高功率密度;探針臺、微型元件熱壓、氣體小腔加熱;H 型號帶過熱保護,防止陶瓷炸裂,半導體設備大量采用。
超薄 0.1mm,真空環境低析出,刻蝕、CVD、PVD 設備靜電卡盤背部全域加熱;分交流 / 直流版本
PI?A / PI?B(AC 交流標準款):腔體、管路伴熱,100?240V,多片分區控溫。
MPI 系列(DC 直流):DC28V,設備內部狹小空間,需要搭配 SCR?SHQ?A2 功率控制器。
半導體定制重點:無膠 PI 加熱膜,消除膠水釋氣氣泡,用于 ESC 靜電卡盤背部加熱,是半導體設備熱門定制方案。
Samicon230:常規款,最高 230℃;普通管路、柜體保溫。
Samicon420(SSAM 蝕刻無膠款)【半導體熱銷】
無膠硫化工藝,低釋氣,適配石英藥液瓶、高純化學品罐伴熱;防止藥液結晶,顯影液、清洗液罐體恒溫,半導體濕法設備大量使用,避免膠水析出污染晶圓。
MCA500?N 常用
SUS316 護套,內置 K 型熱電偶;加熱氮氣、干燥氣體;半導體吹掃氣、工藝氣預熱;最高 500℃,壓力 0.3MPa,PT3/8 接口。
HI?SD ROD(坂口自有):φ5?φ16mm,腔體熱板、小型模組加熱,表面長期≤400℃,抗振動,半導體設備熱板。
FIREROD®(代理 WATLOW):高功率密度,最高 760℃;晶圓烘烤固化爐、高溫模具,可內置熱電偶,多用于工藝爐體內部加熱。
SCR?SHQ?A / SCR?SHQ?A2:相位調壓,高速采樣,控溫精度 ±0.1℃,適配氮化鋁、PI 膜;
SSR?S20?P?EZ:單相 20A,小型腔體、微型陶瓷加熱;
SSR?T20?P?EZ:三相大功率,工藝爐體多區加熱。
| 系列 | 代表型號 | 溫度上限 | 核心半導體用途 | 關鍵特性 |
|---|---|---|---|---|
| 氮化鋁 WALN | WALN?12 | 400℃ | 晶圓載臺、微型熱臺 | 毫秒級響應、內置 K 偶 |
| 氮化鋁 MTP | MTP?300 | 350℃ | 中小尺寸加熱板 | 大板面,均溫好 |
| 氧化鋁陶瓷 MC | MC1010H | 500℃ | 探針臺、點加熱 | 極小尺寸,抗炸裂 |
| PI 聚酰亞胺 | PI?A、MPI | 250℃ | ESC 背部、真空腔體 | 超薄、真空低釋氣 |
| 硅橡膠 SAMICON | Samicon420 | 250℃ | 石英罐、藥液罐伴熱 | 無膠硫化,低析出 |
| 氣體加熱 MCA | MCA500?N | 500℃ | 工藝氮氣預熱 | SUS316,帶熱電偶 |
| 筒式 HI?SD | HI?SD φ8 | 400℃ | 腔體熱板 | 抗振動、密封 |
半導體優先確認:低釋氣規格、潔凈等級、是否內置熱電偶、真空適配;很多型號為非標定制,標準現貨少。
WALN、MTP、無膠 PI 膜大多為定制交期;Samicon230、MCA500?N 有部分標準現貨。
氮化鋁加熱器嚴禁直接大功率沖擊啟動,需要坂口 SCR 相位調壓控制器,不可普通 SSR 過零觸發。
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