玉崎科學儀器（深圳）有限公司  原裝現貨供應 供應：WPA 系列大位相差?高應力樣品（Photonic?Lattice 日本）

產品全稱：二維雙折射 / 殘余應力分布測量系統 WPA 系列定位：面向高雙折射、大相位差樣品；三波長解包裹技術，量程 0?3500?nm，選配高相位差選件最高可達 10000?nm；非接觸無損全域面測量，數秒輸出完整應力云圖；對標三鷹光器 Mitaka 大位相差機型。

?核心技術原理

1. 硬件基礎：自研光子晶體偏振成像陣列傳感器，無旋轉檢偏器等運動部件，無機械磨損；

2. 三波長測量技術（523?nm / 543?nm / 575?nm）：

   利用相位差的波長色散特性，解決高相位差條件下相位纏繞（解包裹）難題，實現 0?3500?nm 寬量程測量，普通單波長設備無法實現該量程。

3. 輸出物理量：相位差 (nm)、光軸角度 (°)；選配數據處理選件可換算等效應力 (MPa)株式會社フ...。

4. 測量速度：2?5 秒完成一整個視場二維面掃描，不需要逐點掃描；輸出云圖、線剖面、統計數據。

??全系列型號詳解

WPA?200（基礎標準機型）

• 定位：實驗室通用臺式，研發、小批量 QC

• 標準視場：約 27×36?mm ~ 100×133?mm；選配變焦鏡頭可縮小至 3×4?mm 微區觀察

• 傳感器像素：384×288（約 11 萬像素）

• 重復精度：相位差 σ?10?nm

• 重量約 13kg；電源 AC100?240V 50/60Hz

• 適用：中等尺寸樹脂件、光學薄膜、COP 膜片、注塑小樣

WPA?200?L（大載臺機型）

• 放大樣品承載臺面，最大樣品尺寸約240?×?320?mm

• 光學性能與 WPA?200 一致；適合大尺寸導光板、大尺寸光學膜、汽車儀表樹脂面板。

WPA?200?XL（超大臺面機型）

• 最大可放置約500?mm 幅寬樣品；大型板材、大尺寸擠出膜。

• 整機體積更大，需要工作臺 / 設備機架擺放。

WPA?300 / WPA?300?L（新一代升級主力機型）

在保留 WPA?200 全部大位相差測量能力基礎上，偏振傳感器分辨率提升 5 倍，可以同時捕捉大相位差本體 + 局部微小應力波動；工業質控主力型號。

• WPA?300：標準臺版；WPA?300?L：大樣品臺版本。

• 優勢：針對注塑件局部細小應力集中、模流帶來微小應力梯度，圖像細節遠優于 WPA?200。

WPA 衍生特殊型號

1. WPA?micro：顯微鏡搭載版本；對接奧林巴斯 / 尼康顯微鏡，實現微米局部微區的大位相差測量；微小光學元件。

2. WPA?200?MT：模塊化分體光源傳感單元，用于設備集成、離線改造、對接產線工裝。

3. WPA?200?NIR：近紅外版本（810/850/880nm 三波長）；可見光不透明、紅外透光深色樹脂樣品。

??WPA 系列通用核心參數

??典型適用樣品

?不推薦：玻璃、晶圓等相位差很低樣品，該場景應選用 PA 系列。

??原廠可選配件清單

1. 變焦鏡頭：縮小視場局部微區觀測；

2. 數據處理選件：應力 MPa 換算、光彈系數輸入；

3. 遮光罩：規避環境雜光干擾；

4. 高位相差擴展選件：量程擴展至 10000?nm；

5. 光彈性系數測量模塊；

6. 遠程控制 API 接口，對接上位機系統。

??WPA?200 與 WPA?300 選型區分